フジテックインターナショナル株式会社

ホットN２装置は、配管等に紛体や異物の付着防止のために設計された装置です。供給された窒素ガスを、ハロゲンランプにより所定の温度に加熱し、 温められた窒素ガスを送り出します。 半導体または液晶製造装置の真空ポンプ排気側配管に導入することにより、排気側配管で発生する反応副生成物が配管内に付着するのを防止する用途に御使用頂けます。